光刻机

电脑知识网11月2日消息，美国半导体初创企业Substrate近期抛出重磅消息，宣称已研发出基于X光的新型曝光技术，其解析度能与荷兰ASML最先进的EUV光刻机匹敌，而后者单台造价就超过4亿美元。 Substrate还明确将在美国自建晶圆代工厂，直接瞄准台积电在AI芯片代工领域的主导地位，意图与ASML、台积电形成双重竞争。 从技术细节来看，Substrat…

电脑知识网10月13日消息，有“中国版阿斯麦”之称的新凯来(SiCarrier)将很快带来新的惊喜，这是深圳官方的说法。 10月10日上午，深圳市政府新闻办召开新闻发布会宣布，以“芯启未来，智创生态”为主题的2025湾区半导体芯片展（湾芯展）将于10月15日至17日在深圳福田会展中心举行。 会上，深圳市发改委主…

9月28日消息，俄罗斯计算机与数据科学博士Dmitrii Kuznetsov近日通过X平台曝光了俄罗斯最新的光刻机研发路线图，显示俄罗斯最快将在2026年完成65-40nm分辨率的光刻机的研发，2032年前完成28nm分辨率的光刻机的研发，并最终在2036年底前完成可以生产10nm以下先进制程的全新极紫外线光（EUV）光刻机的研发。 其实，早在2024年12…

电脑知识网9月28日消息，据报道，俄罗斯计算机与数据科学博士Dmitrii Kuznetsov近日分享了俄罗斯最新光刻机研发路线图。 根据该路线图，俄罗斯最终目标是在2036年前完成可用于10nm以下先进制程的极紫外线（EUV）光刻机的研发。 具体来看分为三个主要阶段： 第一阶段（2026-2028年）的目标是研发支持40nm工艺的光刻机，配备双反射镜物镜系…

电脑知识网9月28日消息，近日ASML表示，根据目前的订单信息和需求，预计2027年将交付10套High-NA EUV和56套EUV光刻机。 据悉，Intel和三星最近都提高了光刻机的订单量。其中，Intel将High-NA EUV的订购数量从1套提高到2套，EUV的订购数量从3套提高到5套，另外三星也将EUV的订购数量从原本的5套提高到7套。 值得注意的还…

电脑知识网9月8日消息，EUV光刻机是制造5nm以下工艺的关键设备，同样重要的还有EUV光刻胶，现在无锡宣布国内首个掌握EUV光刻胶核心技术的平台启动了。 来自无锡政府网站的消息，9月4日2025集成电路（无锡）创新发展大会开幕。 本次大会上宣布了多个重磅项目，除了算力平台外，还有2个值得关注的——无锡先进制程半导体纳米级光刻胶中试线…

电脑知识网7月23日消息，据媒体报道，全球光刻巨头尼康近日宣布，正式推出全球首款专为半导体后道工艺设计的无掩模光刻系统——DSP-100，并已启动全球预订，预计于2026年3月31日前正式上市。 该设备以“高精度、大尺寸、高效率”为核心优势，旨在为快速发展的扇出型面板级封装（FOPLP）技术提供关键设备支持。 …

电脑知识网7月20日消息，近日，日经发表文章称，中国能够打造自己的阿斯麦吗？ 报道称，美西方越是打压封锁，越会倒逼中国加快自主创新步伐，但不必讳言的是，对于希望实现芯片设备100%国产化的中国人来说，攻克光刻技术仍然是一场硬仗。 文章介绍了光刻技术对于芯片最终性能的重要性，并强调了光刻机设备的极高复杂性，也正是因为这一点，让荷兰的ASML在该领域一枝独秀。 …

电脑知识网7月17日消息，光刻机龙头ASML现在宣布，全球首台最强光刻机第二代High NA EUV已经出货。 按照官方的说法，EXE:5200是ASML对现有初代High NA EUV光刻机EXE:5000的改进版本，首台买家是英特尔，一台售价近30亿元。 相比初代High NA EUV光刻机EXE:5000来说，EXE:5200拥有更高的晶圆吞吐量（EX…

电脑知识网7月16日消息，据媒体报道，日前，荷兰光刻机巨头ASML（阿斯麦）警告称，受美关税政策影响，ASML可能无法在2026年实现增长。 ASML CEO Christophe Fouquet称，该公司仍在为2026年的增长努力，但目前无法保证这一点。 ASML表示，与整个半导体行业一样，阿斯麦越来越容易受到美国潜在贸易限制的影响。 地缘政治不…