光刻机

  • 光刻机也遇冷!阿斯麦公布Q1季报:销售额不及预期

    荷兰半导体设备制造商阿斯麦最新公布了第一季度业绩,利润超出预期,但销售额却不达分析师预期。 阿斯麦报告第一季度其销售额为52.9亿欧元(约56.2亿美元),而之前接受调查的分析师预期均值为53.9亿欧元;净利润则达到12.2亿欧元,预期为10.7亿欧元。 而第一季度阿斯麦的销售额和净利润分别比去年同期下降了21.6%及37.4%。其中备受关注的机械设备净预订…

    2024-04-17
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  • 消息称美国对ASML施压:不准向中国厂商提供光刻机工具维修服务

    4月5日消息,据外媒报道,美国正在对荷兰顶级芯片生产设备制造商ASML施加压力,不允许其向中国厂商提供光刻机工具维修服务。 ASML是全球最大的光刻机制造商之一,也是唯一的极紫外(EUV)光刻机供应商。 美国对ASML的施压始于2019年,意图限制接收荷兰设备的中国芯片制造商名单,并阻止ASML在中国提供维修服务。 光刻机是制造芯片的关键设备,中国大陆是AS…

    2024-04-05
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  • 中国台湾花莲县7.3级地震 台积电:EUV光刻机等设备无受损

    叮当号4月4日消息,4月3日7时58分,中国台湾花莲县海域发生7.3级地震,后续记录到上百起余震。 据媒体报道,4月3日晚,台积电对中国台湾发生的地震所造成影响做出最新评估。 台积电表示,虽然部分厂区的少数设备受损并影响部分产线生产,主要机台包含所有极紫外(EUV)光刻设备皆无受损。 台积电称,地震发生后10小时内,晶圆厂设备复原率已超过70%,新建的晶圆厂…

    2024-04-04
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  • 我国科研团队完成新型光刻胶技术初步验证:为EUV光刻胶开发做技术储备

    叮当号4月2日消息,据湖北九峰山实验室官微消息,九峰山实验室、华中科技大学组成联合研究团队,支持华中科技大学团队突破“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”技术。 据介绍,该研究通过巧妙的化学结构设计,以两种光敏单元构建“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”,最终得到光刻图像形貌与线边缘粗糙度优良…

    2024-04-02
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  • 荷兰政府花200亿挽留无效!光刻机巨头ASML为何要从老家搬走

    叮当号3月31日消息,近日,全球光刻机巨头ASML(阿斯麦)打算从荷兰出走的消息引发关注。 日前,荷兰政府宣布,为确ASML不将业务迁往他国,将拿出25亿欧元(约合人民币195亿元)挽留。 据悉,这笔资金将在未来几年内,用于改善ASML总部所在地埃因霍温的住房、教育、交通和电网等基础设施。此外,荷兰政府在一份声明中表示,还将采取行动来减轻企业的税收负担。 对…

    2024-03-31
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  • 光刻机龙头ASML要走 荷兰出手送大招:预留13亿欧元挽留

    叮当号3月29日消息,据国外媒体报道称,荷兰政府正积极行动,力求确保光刻机技术领军者ASML继续扎根本土。 根据荷兰媒体披露的文件草案,该计划包括恢复对技术移民的税收减免,并为阿斯麦总部所在地——埃因霍温地区的发展预留10亿至13亿欧元资金。 ASML首席执行官温宁克(Peter Wennink)此前曾警告称,该公司高度依赖熟练的外国…

    2024-03-29
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  • 29亿元!Intel晒史上最贵开箱:全球首台高NA光刻机已装机

    叮当号3月5日消息,Intel发布了一条特殊的开箱视频,堪称史上最贵:他们从ASML拿到的全球第一台高NA EUV光刻机,已经开始在美国俄勒冈州希尔斯伯勒附近的工厂内安装了。 这台型号为Twinscan EXE:5000的光刻机着实是个庞然大物,运输过程中动用了250个货箱,总重约150吨,先用飞机从荷兰运到俄勒冈州波特兰,再用卡车分批次拉到工厂。 目前安装…

    2024-03-05
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  • 阿斯麦新光刻机初次曝光 “双层巴士”即将开赴生产前线!

    财联社2月29日讯(编辑 马兰)高数值孔径EUV光刻机是全球芯片制造商都在等待的下一代尖端半导体制造设备,而这一有双层巴士那么大的机器终于迎来了“初次曝光”。 据荷兰阿斯麦公司周三证实,新型光刻机已经首次将光线投射到晶圆之上,完成了基本功能验证,公司下一步将继续测试和调整系统,以发挥出设备的全部性能。 光刻系统使用聚焦光束来绘制计算机…

    2024-02-29
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  • ASML研究超级NA光刻机!2036年冲击0.2nm工艺

    叮当号2月17日消息,ASML已经向Intel交付第一台高NA EUV极紫外光刻机,将用于2nm工艺以下芯片的制造,台积电、三星未来也会陆续接收,可直达1nm工艺左右。 那么之后呢?消息称,ASML正在研究下一代Hyper NA(超级NA)光刻机,继续延续摩尔定律。 ASML第一代Low NA EUV光刻机只有0.33 NA(孔径数值),临界尺寸(CD)为1…

    2024-02-17
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  • 27亿元!ASML公开展示高NA EUV光刻机:能造2nm以下工艺

    近日,全球光刻机大厂ASML首次在其荷兰总部向媒体公开展示了最新一代的High NA EUV光刻机。 除了已经率先获得全球首台High NA EUV光刻机的英特尔之外,台积电和三星订购High NA EUV预计最快2026年陆续到位,届时High NA EUV将成为全球三大晶圆制造厂实现2nm以下先进制程大规模量产的必备“武器”。 A…

    2024-02-16
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